Die Lithografie ist der sensibelste und zugleich kapitalintensivste Bereich der Halbleiterfertigung. Reticles – auch als Fotomasken oder Masken bezeichnet – bilden das Herzstück des lithografischen Prozesses. Als Mastervorlagen für das Chipdesign gehören sie zu den wertvollsten Assets einer Fab. Dennoch wird ihr Management häufig unterschätzt.
Bei tausenden Fotomasken im Umlauf und bis zu 50 Belichtungsschichten pro Produkt bergen manuelle Prozesse erhebliche Risiken: Kontamination, Ineffizienz und teure Verzögerungen. Schon ein kleiner Kratzer oder eine Verwechslung kann unbemerkt ganze Wafer-Lose beeinträchtigen, bevor der Fehler entdeckt wird.
Um diese Herausforderungen zu meistern, haben Fabmatics und SCI ihre langjährige Reinraumexpertise gebündelt und eine vollständig integrierte Automatisierungslösung für die Reticle-Logistik entwickelt.
Als Teil des Cleanroom Technologies-Segments innerhalb der SCIO Automation Gruppe bündeln Fabmatics und SCI ihre Expertise und Innovationskraft, um Halbleiterfabriken dabei zu unterstützen, Stillstandszeiten zu reduzieren, die Ausbeute zu steigern und Personalressourcen effizienter einzusetzen.
Erfahren Sie, wie Fabmatics und SCI die Automatisierung in der Lithografie neu definieren – mit integrierten Lösungen für die Reticle-Logistik und darüber hinaus.